首先，被磨、拋材料放于研磨盤(pán)上，研磨盤(pán)逆時(shí)鐘轉動(dòng)，修正輪帶動(dòng)工件自轉，重力加壓的方式對工件施壓，工件與研磨盤(pán)作相對運轉磨擦，來(lái)達到平面研磨機研磨拋光目的。

 

    研磨盤(pán)修整機構采用油壓懸浮導軌前后往復運動(dòng)，金剛石修面刀給研磨盤(pán)的研磨面進(jìn)行精密修整，得到理想的平面效果。平面研磨機而微艙和超微粉這兩組磨料的粒度號數是以顆粒的實(shí)際尺寸來(lái)表示叭其標志是在剁粒尺寸數字的前面加一個(gè)字母“W”。比如w 20，是表示磨料顆粒的實(shí)際尺寸在20、14微米之間。 根據磨料的不同粒度號乳對磨料的粒度尺寸采用如下不同的分邊與測定方法：

 

(1)粒度12。至220。的磨粗和磨粉采用篩選法分選測定之一。 

 

(2)粒度240”至280’的密粉則采用篩選法分選，而采用篩選法和顯微鏡分析法聯(lián)合分析來(lái)測定，平面研磨機這是由于篩網(wǎng)的網(wǎng)眼最小只能在o．05一o．06毫米之間(相當每時(shí)長(cháng)度上有網(wǎng)孔240、280個(gè))，再小則篩選法就分選不了的緣故。 

 

(3)粒度由w40以下的微粉和超微粉采用水選法(即沉淀法)分迅并采用顯微鏡分析法來(lái)測定。