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淺析硅片拋光機的兩種拋光方式

發(fā)布日期： 2019-05-10  瀏覽人數：

    硅片拋光機如何解決這個(gè)矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過(guò)也應當盡可能��；其次是精拋(或稱(chēng)終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到最小。
拋光機
 
    硅片拋光機不是碾除整體的糠層，是通過(guò)碾除細微的糠粉和粗糙表上面突起的淀粉細粒，拋光機拋光和碾白從工作方面比較存在著(zhù)很大的差別，拋光機拋光壓力很低，拋光機拋光米粒的時(shí)候流體密度很小，拋光時(shí)米粒離開(kāi)鐵輥的速度很快，而且拋光機單位產(chǎn)量拋光運動(dòng)面積很大。
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