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平面拋光研磨機的性能受到哪些挑戰

發(fā)布日期： 2019-12-19  瀏覽人數：

    平面拋光研磨機適用于各種材料研磨拋光，在光學(xué)玻璃、石英晶片、硅片、LED藍寶石襯底等要求超薄工件的領(lǐng)域中作用突出�；ヂ�(lián)網(wǎng)的生活將人們的衣食住行緊緊地聯(lián)系在一起，進(jìn)而對手機的需求越來(lái)越大，而平面拋光研磨機行業(yè)也正在不斷發(fā)展。
研磨拋光機
    然而，隨著(zhù)對研磨產(chǎn)品的性能要求不斷提高，平面拋光研磨機性能也在不斷受到挑戰。具體來(lái)說(shuō)，石英晶片、硅片等要求厚度越來(lái)越薄，為了提高振蕩頻率。而藍寶石襯底片為了利于散熱也在要求厚度變薄，手機零件方面對工件的精度、光潔度要求也越來(lái)越高。
 
    總而言之，平面拋光研磨機要應對這些挑戰，廠(chǎng)家一方面要改善設備的各方面性能，另一方面要提高自身的研磨加工技術(shù)。
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