平面拋光研磨機使用的拋光液的濃度只有達到一個(gè)比較合適的值的時(shí)候，才能保證工件表面粗糙度的良好性，所以說(shuō)太稀太稠就不好，就會(huì )讓工件的表面變得非常不平整。而在這里面有個(gè)最佳的范圍，只要能達到這樣的一個(gè)就可以了。

 

 

　　拋光液的配制比例緣何如此重要呢，因為拋光是一個(gè)非常精細高精密度的一項研磨工藝，要求所有的步驟所用的材料都要符合規范，要達到最精細的標準，甚至納米的級別，所有我們在配制拋光液時(shí)里面顆粒的成分，顆粒的大小，顆粒的分布都是有一個(gè)固定的比值的。其中顆粒的分布就是指拋光液的濃度。拋光液的濃度對拋光的效果影響很大，如果拋光液濃度過(guò)低，意味著(zhù)顆粒分布稀少，工件和研磨盤(pán)之間得不到很好的摩擦，那么平面拋光研磨機的拋光的目的也就無(wú)法實(shí)現。反之，拋光液濃度過(guò)高，意味著(zhù)顆粒分布密集，工件和磨盤(pán)之間的顆粒分布太多，會(huì )短時(shí)間內產(chǎn)生過(guò)高的熱量，對磨盤(pán)和工件都有一定程度的損傷。而且顆粒過(guò)多對工件表面的摩擦過(guò)強烈使得工件表面出現橘皮紋，劃痕等現象，同樣也無(wú)法達到研磨機拋光的最佳效果。